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合作案例

  • 清華大學采購PLUTO-T等離子清洗機
    清華大學采購PLUTO-T等離子清洗機 清華大學調研了眾多等離子表面處理設備,最終選擇了上海沛沅生產的Pluto-T等離子清洗機/表面處理機。根據客戶的技術要求,提供了可以滿足老師所有技術參數要求的Pluto-T等離子清洗機/表面處理機,以下為該設備的安裝調試圖。
  • 上海交大采購PLUTO-MC沉積鍍膜設備
    上海交大采購PLUTO-MC沉積鍍膜設備 2020年12月,上海交通大學采購我司PLUTO-MC沉積鍍膜設備。該設備采用13.56MHz射頻,涂覆面積為150*150mm,具備良好的穩定性與可重復性。
  • 電子科技大學采用Pluto-MD等離子去膠機進行晶圓去膠
    電子科技大學采用Pluto-MD等離子去膠機進行晶圓去膠 電子科技大學已采購多臺等離子設備,包括PLUTO-T等離子清洗機,PLUTO-MD等離子去膠機等,用戶反饋良好。主要涉及的應用有:晶圓光刻膠的去除、電子半導體樣品表面有機物的去除、多功能微納結構寬帶吸收器的表面處理等等。

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企業新聞| CORPORATE NEWS

臺式真空等離子清洗機的工作原理與應用價值

在現代精密制造、科研實驗以及高技術產業領域,對材料表面潔凈度與活性的要求日益嚴苛。傳統的清洗方式,如溶劑清洗、超聲波清洗等,雖然在一定程度上能夠去除表面污垢,但...

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技術文章| Technical articles

等離子去膠機的選擇要素可分為以下幾點

等離子去膠機是半導體、電子制造及材料科學領域中用于去除表面有機殘留(如光刻膠、聚合物)的關鍵設備,其核心原理是通過等離子體中的活性粒子與材料表面發生化學反應或物理轟擊,實現高效、無損傷的清潔。選擇合適的設備需綜合評估處理需求、樣品特性、操作效率及長期使用成本,以下從核心要素展開分析。一、明確處理需求與目標等離子去膠機的選擇依據是處理對象的特性與目標。用戶需先明確以下問題:污染物類型:若需去除光刻膠、抗反射層等有機物,需選擇氧等離子體設備,其活性氧離子可高效分解碳鏈結構;若為金...

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應用案例

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